Gelişme, Çin'in Hollandalı şirket ASML tarafından üretilen ve ihracat kısıtlamalarına tabi olan gelişmiş litografi sistemlerine bağımlılığını azaltma çabalarında önemli bir adım olarak değerlendiriliyor.
Nanoimprint litografi ile maliyetler yüzde 90 azalabilir
Prinano, geleneksel optik litografi yerine kendi geliştirdiği PL-AS vakum hava yastıklı nanoimprint litografi (NIL) sistemini kullandığını açıkladı. Şirkete göre bu yöntem, DUV tabanlı üretim süreçlerine kıyasla maliyetleri yüzde 90 azaltırken, wafer seviyesinde fotonik çip üretimine de olanak tanıyor.
Günümüzde yarı iletkenlerin büyük bölümü DUV veya daha gelişmiş aşırı ultraviyole (EUV) litografi sistemleriyle üretiliyor. Bu makineler ışık kullanarak devre desenlerini silikon wafer'lara aktarırken, nanoimprint litografi tamamen farklı bir yaklaşım benimsiyor. Teknoloji, ışık projeksiyonu yerine nanometre ölçeğindeki desenleri özel bir rezist tabakasına fiziksel olarak damgalayarak aktarıyor. Böylece karmaşık ve son derece pahalı optik sistemlere olan ihtiyaç önemli ölçüde azalıyor.
Nanoimprint litografi yıllardır düşük maliyet ve yüksek çözünürlük potansiyeli nedeniyle umut vadeden bir alternatif olarak görülse de, yüksek hata oranları, kalıp aşınması, üretim hızı ve verimlilik gibi sorunlar nedeniyle yaygın kullanıma ulaşamamıştı.
2017 yılında kurulan Prinano, son yıllarda bu engelleri aşmaya yönelik kendi nanoimprint litografi ekosistemini geliştirmeye odaklandı. Şirket, 2025 yılında Çin'in ilk yerli yarı iletken nanoimprint litografi sistemini bir müşteriye teslim ettiğini açıklamıştı.
Son duyuru ise şirketin ekipman geliştirme aşamasını geride bırakıp ticari üretime daha da yaklaştığına işaret ediyor. Prinano, platformunun wafer seviyesinde basınç kontrolü, özel çift katmanlı baskılama malzemeleri ve 10 nanometrenin altında yapıların oluşturulmasını sağlayan tescilli süreç teknolojileri içerdiğini söylüyor.
Hedef yapay zeka işlemcileri değil, fotonik çipler
Şirketin açıklaması, gelişmiş işlemciler veya yapay zeka hızlandırıcıları üretmekten ziyade fotonik çiplere odaklanıyor. Işık sinyalleriyle çalışan bu çipler, fiber optik iletişim, veri merkezi bağlantıları, sensör sistemleri ve LiDAR uygulamalarında yaygın olarak kullanılıyor.
Uzmanlara göre fotonik çipler, tekrar eden nano ölçekli desenlerden oluşan yapıları sayesinde nanoimprint litografi için oldukça uygun bir kullanım alanı sunuyor. Bu nedenle teknoloji, ileri seviye mantık çiplerinden önce fotonik uygulamalarda ticari başarı elde edebilir.
Prinano'nun 8 inçlik wafer'lar üzerinde üretim gerçekleştirdiğini açıklaması da önemli bir ayrıntı olarak öne çıkıyor. En gelişmiş işlemciler genellikle 12 inç wafer'larda üretilse de, 8 inç wafer'lar güç elektroniği ve bileşik yarı iletkenler gibi birçok özel alanda halen yaygın şekilde kullanılıyor. Tam boyutlu 8 inç wafer üretiminin gösterilmiş olması, teknolojinin laboratuvar ölçeğinden çıkıp ticari üretime daha yakın bir aşamaya ulaştığını düşündürüyor.
Ticari başarı henüz kanıtlanmış değil
Bununla birlikte Prinano, üretim hacmi, verim oranları, hata yoğunluğu, müşteri sevkiyatları veya bağımsız üçüncü taraf doğrulamaları gibi kritik verileri paylaşmadı. Bu nedenle teknolojinin teknik olarak çalıştığı iddia edilse de, ticari ölçekte rekabetçi ve sürdürülebilir olup olmadığı henüz netlik kazanmış değil.
Yine de gelişme, Çin'in ABD öncülüğündeki ihracat kısıtlamaları karşısında alternatif yarı iletken üretim yöntemleri geliştirme stratejisinin önemli bir parçası olarak görülüyor. Çinli şirketler son dönemde gelişmiş paketleme teknolojileri, yeni çip mimarileri ve alternatif üretim yöntemleri üzerinde çalışmalarını hızlandırmış durumda.
